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晶片研磨、拋光專用微粉

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晶片研磨、拋光專用微粉

用途:

  用于半導(dǎo)體、壓電晶體等行業(yè)的精密研磨和高級(jí)拋光;

特點(diǎn):

  1.自主研發(fā)高精度分級(jí)生產(chǎn)線,具備顆粒形態(tài)整齊均勻,并且各個(gè)批次粒度穩(wěn)定,并且粗粒被嚴(yán)格控制,減少對(duì)研磨拋光表面劃傷;

  2.粒度形狀以等積狀為主;

  3.PH值為中性;

  4.微粉的流動(dòng)性能好;

  5.采取自主研發(fā)專利清質(zhì)技術(shù)、提純工藝,微粉具備高純度和清潔的結(jié)晶表面與研磨液適配性強(qiáng)。